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集成电路板生产用超纯水处理设备

产品介绍
集成电路生产制造过程中经常会用到超纯水,超纯水设备主要采用反渗透技术和EDI技术相结合的制水工艺,保证设备的出水水质。

EDI设备一般以二级反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI超纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。EDI模块将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。一定数量的EDI单元间被格板隔开,形成浓水室和淡水室。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水。
 
工艺设计
1、采用高效反渗透加EDI方式,其流程如下(最新工艺性价比最高):自来水→电动阀→多介质过滤器→活性
炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水
箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

2、采用离子交换方式,其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱
→低压泵→精密过滤器→阳树脂床→阴树脂床→阴阳树脂混合床→微孔过滤器→用水点

3、采用两级反渗透方式,其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水
箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透主机→PH调节→混合器→二级反渗透主机(反渗透膜表面带正电荷)→
纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
 
设备特点
1、连续运行,产品水水质稳定,容易实现全自动控制。
2、超纯水设备无须用酸碱再生,且不会因再生而停机。
3、节省了再生用水及再生污水处理设施,产水率高(可达95%)。
4、设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施。
5、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施,使用安全可靠,避免工人接触酸碱。
6、安装简单,占地面积小,降低运行及维护成本。
技术参数
电导率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水温度:5~35℃
总硬度:<0.5ppm
有机物:<0.5 ppm,TOC为零
氧化物:≤0.05ppm
铁、锰:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm
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